硅片清洗機(jī)不僅保留了超聲波清洗的優(yōu)點(diǎn)，而且克服了超聲波清洗的缺點(diǎn)。兆聲無(wú)損清洗機(jī)的工作原理是利用高能（850kHz）頻率效應(yīng)和化學(xué)清洗劑的化學(xué)反應(yīng)對(duì)硅片進(jìn)行清洗。在清洗過(guò)程中，換能器發(fā)出的高能聲波波長(zhǎng)為1 m，頻率為0.8 MHZ。在聲波的驅(qū)動(dòng)下，溶液的分子運(yùn)動(dòng)得更快。瞬時(shí)速度可達(dá)30cm/s。因此，無(wú)法形成超聲清洗等氣泡。相反，硅片清洗機(jī)只能用高速的流體波不斷地沖擊晶圓片表面，迫使附著在晶圓片表面的微小污染物顆粒被去除并進(jìn)入清洗溶液中。

 

　　經(jīng)濟(jì)的發(fā)展，人們的生活水平不斷提高，對(duì)消費(fèi)品的質(zhì)量要求也越來(lái)越高，等離子技術(shù)隨之逐步進(jìn)入生活消費(fèi)品生產(chǎn)行業(yè)中；另外，科技的不斷發(fā)展，各種技術(shù)問(wèn)題的不斷提出，新材料的不斷涌現(xiàn)，越來(lái)越多的科研機(jī)構(gòu)已認(rèn)識(shí)到等離子技術(shù)的重要性，硅片清洗機(jī)并投入大量資金進(jìn)行技術(shù)攻關(guān)，等離子技術(shù)在其中發(fā)揮了非常大的作用。我們深信等離子技術(shù)應(yīng)用范圍會(huì)越來(lái)越廣；技術(shù)的成熟，成本的降低，其應(yīng)用會(huì)更加普及。

 

　　硅片清洗機(jī)的機(jī)理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機(jī)理來(lái)看，等離子體清洗通常包括以下過(guò)程：無(wú)機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物質(zhì)被吸附在固體表面；被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子解析形成氣相；反應(yīng)殘余物脫離表面。

 

　　硅片清洗機(jī)有三種方法：

 

　?、偎⑾椿虿料矗嚎沙ヮw粒污染和大多數(shù)粘在片子上的薄膜。

 

　?、诟邏呵逑矗菏怯靡后w噴射片子表面，噴嘴的壓力高達(dá)幾百個(gè)大氣壓。高壓清洗靠噴射作用，片子不易產(chǎn)生劃痕和損傷。但高壓噴射會(huì)產(chǎn)生靜電作用，靠調(diào)節(jié)噴嘴到片子的距離、角度或加入防靜電劑加以避免。

 

　?、鄢暡ㄇ逑矗撼暡暷軅魅肴芤?，靠氣蝕作用洗掉片子上的污染。但是，從有圖形的片子上除去小于 1微米顆粒則比較困難。將頻率提高到超高頻頻段，清洗效果更好。

 

　　硅片清洗機(jī)發(fā)展展望：

 

　　伴隨著硅片的大直徑化，器件結(jié)構(gòu)的超微小化、高集成化，對(duì)硅片的潔凈程度、表面的化學(xué)態(tài)、微粗糙度、氧化膜厚度等表面狀態(tài)的要求越來(lái)越高。

 

　　同時(shí)，要求用更經(jīng)濟(jì)的、給環(huán)境帶來(lái)更少污染的工藝獲得更高性能的硅片。高集成化的器件要求硅片清洗要盡量減少給硅片表面帶來(lái)的破壞和損傷，盡量減少溶液本身或工藝過(guò)程中帶來(lái)的沾污。

 

　　硅片清洗機(jī)正向著小型化、非盒式化及一次完成化（所有清洗與干燥步驟在一個(gè)槽內(nèi)進(jìn)行）方向發(fā)展，以減少工藝過(guò)程中帶來(lái)的沾污，滿足深亞微米級(jí)器件工藝的要求。這無(wú)論對(duì)清洗工藝還是對(duì)清洗設(shè)備都是一個(gè)極大的挑戰(zhàn)，傳統(tǒng)的清洗方法已不能滿足要求。

 

　　臭氧水、兆聲波、電解離子水等的應(yīng)用顯示出很好的去除硅片表面顆粒和金屬沾污的能力，對(duì)硅片表面微觀態(tài)的影響很小。而且，它們的使用使清洗設(shè)備小型化及清洗工藝一次完成化的實(shí)現(xiàn)成為可能。

 

　　硅片清洗機(jī)特點(diǎn)：

 

　　高能能有效地去除亞微米粒子。

 

　　聲的產(chǎn)生與傳統(tǒng)的超聲空化不同，避免了對(duì)工件的損傷。

 

　　發(fā)電機(jī)配有液晶顯示屏，可對(duì)運(yùn)行狀態(tài)進(jìn)行數(shù)字化顯示。

 

　　發(fā)電機(jī)配有鎖相環(huán)頻率自動(dòng)跟蹤系統(tǒng)，可與主計(jì)算機(jī)連接，外形設(shè)計(jì)精美。

 

　　安裝方便，可與生產(chǎn)線配套使用。

 

　　硅片清洗機(jī)主要用于：

 

　　1. 液晶顯示，手機(jī)鏡頭，光學(xué)設(shè)備攝像頭鏡頭制造。

 

　　2. 汽車(chē)、摩托車(chē)制造。

 

　　3.電子、微電子、電子及電子元器件制造業(yè)。

 

　　4、五金、機(jī)械零部件行業(yè)。

 

　　5、航天、航天清洗精密零部件行業(yè)；。

 

　　6、手表、手表、珠寶——制造業(yè)。

 

　　7. 家電制造業(yè)。

 

　　8. 電鍍。

 

　　硅片清洗機(jī)定期保養(yǎng)-每?jī)蓚€(gè)月一次

 

　　1. 定期清除油箱內(nèi)的油垢將延長(zhǎng)發(fā)動(dòng)機(jī)的使用壽命和性能。燃料沉積會(huì)對(duì)燃油管道、燃油過(guò)濾器和化油器造成損壞。

 

　　2、當(dāng)不使用高壓清洗機(jī)時(shí)，配合凱徹泵保護(hù)套件保護(hù)您的高壓清洗機(jī)。泵的保護(hù)套是專門(mén)為保護(hù)高壓清洗機(jī)免受腐蝕、過(guò)早磨損、凍結(jié)等而設(shè)計(jì)的。潤(rùn)滑閥門(mén)和密封圈，防止它們粘在一起。

 

　　硅片清洗機(jī)電動(dòng)類型：

 

　　1. 關(guān)閉晶圓清潔器；

 

　　2. 從泵上拆下高壓軟管和伺服噴嘴桿；

 

　　3.將閥門(mén)連接到泵的保護(hù)水箱上，打開(kāi)閥門(mén)；

 

　　4. 啟動(dòng)并打開(kāi)清洗機(jī)，將罐內(nèi)所有物質(zhì)吸進(jìn)泵內(nèi)；

 

　　5、關(guān)閉清洗機(jī)，現(xiàn)在高壓清洗機(jī)可以直接儲(chǔ)存。

 

　　發(fā)動(dòng)機(jī)類型：

 

　　1. 關(guān)閉晶圓清潔器；

 

　　2. 從泵上拆下高壓軟管和伺服噴嘴桿；

 

　　3.將閥門(mén)連接到泵的保護(hù)水箱上，打開(kāi)閥門(mén)；

 

　　4、點(diǎn)火時(shí)，拉動(dòng)起動(dòng)繩，將罐內(nèi)所有物質(zhì)放入泵內(nèi)；

 

　　5、現(xiàn)在晶圓清潔器可以直接存儲(chǔ)。